三菱電機株式会社　半導体・デバイス事業の『化合物半導体ウエハプロセスのエピタキシャル成長技術の装置管理・メンテナンス【高周波光デバイス製作所】』の求人情報｜中途採用の求人情報は、JOB Change

●採用背景
1960年代より積み重ねてきた研究開発の歴史を継承し、今もなお進化を続ける当社の化合物半導体技術。その技術から生み出される高周波・光デバイスは、AIの普及で大量の情報を処理するデータセンター、5Gなどの通信インフラ、センシング等に使用されており、性能面で他社の追随を許さず、国内外でトップクラスのシェアを誇ります。近年、通信トラフィックは急速に増大しており、お客様からの期待に応えるため、この度生産能力を大きく引き上げる「増産」へと踏み出すことになりました。これら最先端デバイスの性能を支える要となるのが、エピタキシャル成長技術です。
生産量拡大に不可欠な装置安定稼働に向けて、MOCVD装置の管理・保守メンテナンスを担当できる技術者を募集します。特にAsH₃ や PH₃ を使用するため、ガス供給設備・トラップ・排気系統まで含めた安全管理が重要であり、装置安定稼働と設備信頼性向上に貢献できる方を求めています。

●職務内容
光通信用途を始めとしたデバイス開発を支える化合物半導体エピタキシャル成長技術について、特にMOCVD装置を中心としたエピタキシャル成長設備の維持管理・改善活動を担当いただきます。

【変更の範囲】
会社の定める業務(※)
(※)業務の都合によっては会社外の職務に従事するため出向又は転属を命じることがあります

≪具体的には≫
■業務内容例
・MOCVD装置の状態管理、定期メンテナンス、トラブル対応
・成長装置（反応炉、シャワーヘッド、マニホールド）のクリーニング・再組立
・ガス供給システム（TMGa、TMIn、AsH₃、PH₃等）の設備管理
・AsH₃／PH₃トラップ、除外装置、排気スクラバーの点検・交換
・設備の異常監視、改善提案やパーツ寿命管理（予防保全）
・安全運転のための手順見直し、教育資料の作成
・設備メーカーとの調整・改良に向けた仕様検討
・設備管理の視点からエピタキシャル成長条件の高効率化に向けた改善提案

将来的には装置リーダーとして複数ラインの管理・後輩指導。

●組織のミッション
・本部・事業部（高周波光デバイス製作所）
国内・海外顧客並びに社内部門に対する高周波デバイス製品・光デバイス製品の販売・開発
・ウエハ製造部
高周波デバイス・光デバイスの半導体ウエハ製造、エピ/プロセスの生産技術、要素技術開発
・エピ技術課
高周波デバイス・光デバイスのエピ構造開発、エピ量産技術

●業務の魅力
エピタキシャル成長技術は化合物半導体デバイスの性能を左右する最重要技術です。
エピタキシャル成長装置の安全・安定稼働を担うこのポジションは、まさに“製造ラインの心臓”を預かる役割であり、あなたの設備技術が、世界トップクラスの光デバイス／高周波デバイスの品質を支えます。
設備技術だけでなく、成長技術やデバイス設計と連携し、成長装置の最適化技術についても経験する事で、自身のキャリアを広げる事ができます。

●事業/製品の強み
当所の製品デバイスは、データセンター向け光デバイスで世界トップシェアを誇る実績を持つほか、5G/6G・衛星通信などにも製品を展開しています。

●職場環境
残業時間 ：月平均20時間/繁忙期35時間
出張：有　(年数回)
転勤可能性：有（所内移動メイン、所外は稀。）
リモートワーク：有（週3日程度利用可能）
中途社員の割合：約10%

●想定されるキャリアパス
将来的には複数装置を統括し、成長プロセスと設備技術をつなぐキーパーソンに成長。
エピ成長技術のとりまとめ業務を経て、成果と能力次第で管理職に登用。

■製品情報（高周波デバイス、光デバイス）
https://www.mitsubishielectric.co.jp/semiconductors/index.html

■高周波光デバイス製作所 Xアカウント
https://twitter.com/hakouden_melco

●採用関連のお問い合わせについて
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三菱電機株式会社 応募事務局
mitsubishielectric-b@rs-career.com
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※お電話でのお問い合わせは承っておりません。

勤務地

【雇入れ直後】
兵庫県伊丹市瑞原四丁目1番地

【変更の範囲】
会社の定める場所(※)
(※)業務の性質等に応じリモートワークを認める場合は、リモートワーク を行う場所（自宅等）を含む。

応募資格

●必須
・工学系学士以上または同等の専門知識・スキルを有する方
・半導体製造装置（MOCVD、CVD、PVD、エッチングなど）の運用または保守経験
・ガス供給設備・排気設備に関する基礎知識
・安全管理（特に毒性ガス・可燃性ガス）の基礎理解
・工学系の基礎知識（材料、機械、電気、化学など）

●歓迎要件
・MOCVD装置のメンテナンス経験
・AsH₃／PH₃／TMGa／TMIn など毒性・可燃性ガスの取り扱い経験
・設備改善、予防保全、異常解析などの実務経験
・化合物半導体（InP, GaAs, GaNなど）の結晶成長・評価経験に関する実務
・ISO・安全衛生基準に基づいた運用改善の実績がある方

●求める人物像
・装置の構造を理解し、内部構造からメカニズムを把握できる方
・安全最優先で業務に取り組める方
・メーカーとやり取りしながら改善提案できる方
・現場に寄り添い、継続的に設備を良くしていく姿勢のある方
・一緒に働く人だけでなく、関わる全ての人への心遣いや配慮ができる人

待遇

【勤務条件】
■雇用形態：正社員
■試用期間：3ヶ月（試用期間中の労働条件変更無）
■賃金形態：月給制
■月給：28万円～57万円
■想定年収：500万円 ～ 1,100万円（経験・役割等による）
■残業手当：有（残業時間に応じて支給。深夜勤務、休日手当は別途支給有。）
■賃金改定：年1回（6月）
■賞与：年2回（6月・12月）
■退職金：有
■社会保険：雇用保険、労災保険、健康保険、厚生年金保険
■各種手当：通勤手当（会社規定に基づき支給）、扶養手当など

【就業時間】
■就業時間：8:30～17:00
■所定労働時間：7時間45分（休憩45分）
■フレックスタイム制：有
■コアタイム：なし

【休日】
■年間休日：125日（2025年度）
　※内訳：土曜/日曜/祝日、GW、夏季、年末年始など（会社カレンダーに準じる）
■年次有給休暇：20日～25日
　※入社時より付与。付与日数は入社日により変動（4～20日）。
■その他：チャージ休暇2～4日（30歳、40歳、50歳到達年）

【その他】
■福利厚生：寮、社宅、家賃補助制度、財形貯蓄、住宅融資、社員持株会、
社員互助会、保養所、契約リゾート施設、スポーツ施設など